型號： Chemical

化學品-半導體前段

濕式清洗 (Wet Cleaning)

我們的產品適用於灰化後殘留物的去除、特徵氧化物的去除、曝光後光阻劑的剝離等製程。

濕式蝕刻 (Wet Etching)

我們可以提供各式金屬蝕刻液（如鋁蝕刻液、金蝕刻液、銀蝕刻液等），以及非金屬蝕刻液（矽蝕刻液、氧化鋁蝕刻液、BOE 等）。

四大類產品

溶劑類清洗劑、胺/非羥胺類清洗劑、水系含氟類清洗劑、水系雙氧水類清洗劑全系列對標

技術節點

鋁製程 (Al) (90nm 以上製程)
銅大馬士革工藝 (Cu) (90nm 以下)
氮化鈦掩模版及中道製程 (TiN) (40nm 以下)
產品型號 建議取代型號
PER800 Series EKC 265, EKC 270, EKC 270T, ACT 690S, ACT 930, ACT 935, ACT 940, ACT 970
PRS1100 EKC 830
PRS135 Series EKC 922, EKC 1020
PRS7000 XM-558
PRS6100B S6000
PER650 Series MGC ELM C30
PER930 Series ST200, ST250
PER670 Series ACT NE 111
PER330 & PER630 EKC 6800, EKC 6850
PER370 REZI 98
PER1120 Series EKC 575, EKC 580
PER1320 Series CLK 888
PER316 REZI 38
PER1300 Series R2212, R2380
PER1630 Series R2208, R2306