型號: p-06
PVD(Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積)是一種常見於半導體與精密製造領域的鍍膜技術。其原理為以物理方式將材料蒸發或濺射,轉化為薄膜並均勻覆蓋於晶圓或工件表面,可有效提升表面導電性、耐磨性與防護性能。毅閎科技提供多款 PVD 製程零部件(PVD Parts),確保鍍膜品質、提升良率。