型號: p-06

PVD製程零部件

提升鍍膜穩定性 × 良率

PVD(Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積)是一種常見於半導體與精密製造領域的鍍膜技術。其原理為以物理方式將材料蒸發或濺射,轉化為薄膜並均勻覆蓋於晶圓或工件表面,可有效提升表面導電性、耐磨性與防護性能。毅閎科技提供多款 PVD 製程零部件(PVD Parts),確保鍍膜品質、提升良率。

產品項目與應用

  • Shield(防護罩):避免鍍膜室內壁被材料污染,延長清潔與保養週期。
  • Collimator(整流器):控制鍍膜粒子的角度分佈,提升薄膜均勻度與方向性。
  • Cover Ring(保護環):保護晶圓邊緣,避免鍍膜或污染。
  • Deposition Ring(鍍膜環):控制鍍膜範圍,減少材料浪費。
  • Shutter Disk(快門盤):在非鍍膜階段阻擋材料,防止污染。
我們可依您的製程需求提供相容的 PVD製程零部件,並支援多款機型與規格。